はじめての半導体リソグラフィ技術 現場の即戦力 [ 岡崎信次 ]

   

現場の即戦力 岡崎信次 鈴木章義 技術評論社ハジメテ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ オカザキ,シンジ スズキ,アキヨシ 発行年月:2012年01月 予約締切日:2011年12月07日 ページ数:301p サイズ:単行本 ISBN:9784774149394 岡崎信次(オカザキシンジ) 1970年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。

1970年(株)日立製作所中央研究所に入所。

1980年より1年間米国Rensselater Polytechnic Instituteに留学。

1994年東京工業大学より工学博士授与。

1995年日立製作所半導体事業部、1998年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りASETに出向、EUV研究室室長としてEUVリソグラフィ技術の研究に従事。

2002年ASET、EUVプロセス技術研究部部長に就任し、2006年日立中研に戻る 鈴木章義(スズキアキヨシ) 1973年東京大学物理工学専門課程修士修了。

1973年キヤノン(株)に入社。

現在、NGL推進統括部、キヤノンフェロー、SPIEフェロー。

1984年光学論文賞、1985年機械振興協会賞、2005年新機械振興会賞。

1991年東京大学より工学博士授与 上野巧(ウエノタクミ) 1979年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了(理博)。

1979年(株)日立製作所中央研究所に入所。

1995年同社日立研究所、2001年日立化成工業(株)総合研究所、2002年日立化成デュポンマイクロシステムズ(株)、2005年より日立化成工業(株)筑波総合研究所主管研究員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) 1章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術/2章 光リソグラフィ技術/3章 電子線リソグラフィ技術/4章 X線・EUVリソグラフィ技術/5章 その他のリソグラフィ技術/6章 マスク技術/7章 レジスト技術/8章 計測評価技術/9章 リソグラフィ技術の課題と今後の展望 本 科学・技術 工学 電気工学 科学・技術 その他

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